Entity - Sistema Dip: preparación, inmersión, recubrimiento, activador y restauración (15 ml)
El paso 1 del sistema Entity Dip & Buff es la preparación
Prep se utiliza para eliminar el exceso de aceite y humedad de la placa de la uña y restablecer el equilibrio del pH de la placa de la uña antes de aplicar Entity Dip & Buff. Este producto no contiene fragancias ni colorantes que puedan dejar residuos en la placa de la uña e interferir con la adhesión.
El paso 2 del sistema Entity Dip & Buff es la capa base
La capa base está hecha con adhesivos de cianoacrilato, que son menos sensibilizantes en comparación con los productos de salón de acrilato/metacrilato. Esto hace que Entity Dip & Buff sea una opción posible para las personas que no pueden usar ningún otro tipo de recubrimientos o mejoras. Contiene vitamina A, vitamina E y calcio para ayudar a proteger la uña natural durante el uso.
El paso 3 del sistema Entity Dip & Buff es el activador
El activador ayudará a acelerar el proceso de secado al aumentar la velocidad de polimerización y reducir al mínimo cualquier posible decoloración o amarilleamiento. El activador también ayudará a dar flexibilidad al revestimiento terminado, reduciendo cualquier fragilidad, y con la capa superior se logrará un acabado transparente similar al vidrio.
El paso 4 del sistema Entity Dip & Buff es la capa superior.
La capa superior está hecha con adhesivos de cianoacrilato, que son menos sensibilizantes en comparación con los productos de salón de acrilato/metacrilato. Esto hace que Entity Dip & Buff sea una opción posible para las personas que no pueden usar ningún otro tipo de recubrimientos o mejoras. Contiene vitamina A, vitamina E y calcio para ayudar a proteger la uña natural durante el uso. Aplique 2 capas de Entity Dip and Buff Top Coat para sellar y dar brillo a la uña terminada.
Restaurador de pinceles para sistema de inmersión y pulido Entity
Sumerge tus pinceles en esta botella para eliminar cualquier acumulación de polvo en tus pinceles de preparación, base o capa superior.